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更新時(shí)間:2024-10-25
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
主要參數(shù): 電光晶體:LiNbO3(鈮酸鋰);光源是半導(dǎo)體激光器;波長650nm;功率≥2.5mW;導(dǎo)軌1000mm;偏振片φ20mm;1/4波片;晶體偏置電壓:0~400V(數(shù)碼顯示),交流內(nèi)調(diào)制信號電壓0-40VPP;頻率1KHZ(連續(xù)可調(diào))
更新時(shí)間:2024-10-25
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
1、觀察聲光調(diào)制的衍射現(xiàn)象(布拉格衍射);2、測試聲光晶體的調(diào)制特性;3、調(diào)制晶體:鉬酸鉛晶體;4、調(diào)制方式:橫向調(diào)制;5、調(diào)制電壓:0-40VPP;6、調(diào)制波形:1KHZ正弦波(或其他波形,例如鋸齒波);7、調(diào)制帶寬:20MHZ;8、電源:220±10%,50HZ;9、激光波長:650~680nm;
更新時(shí)間:2024-10-25
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
儀器介紹 本實(shí)驗(yàn)包括激光散斑照相和電子散斑干涉兩部分。利用二次曝光散斑圖進(jìn)行物體表面面內(nèi)位移場的測試,以及由此引伸出來的應(yīng)變、應(yīng)力場測試、距離、速度測試、物體內(nèi)在缺陷和振動(dòng)分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。利用電子散斑干涉對物體離面位移進(jìn)行測量,同時(shí)對傳統(tǒng)的干版曝光和計(jì)算機(jī)圖形處理兩種方法作比較,以加深對散斑干涉的理解。
更新時(shí)間:2024-10-24
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
儀器介紹 利用二次曝光散斑圖進(jìn)行物體表面面內(nèi)位移場的測試,以及由此引伸出來的應(yīng)變,距離,速度測試,物體內(nèi)在缺陷和振動(dòng)分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容 1、拍攝自由空間散斑和成像散斑圖,了解激光散斑現(xiàn)象及其特點(diǎn) 2、掌握二次曝光散斑圖的逐點(diǎn)分析和全場分析測物體面內(nèi)位移的方法
更新時(shí)間:2024-10-24
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家